1. 塊體(ti)樣品要(yao)求平整(zheng),干凈,導電(dian)性好,尺寸(cun)必須大于(yu)5*5mm-小(xiao)于(yu)10*10mm左右,厚度小(xiao)于(yu)2mm;粉末(mo)樣品優(you)先選(xuan)擇旋涂法(fa),基材(cai)材(cai)質(zhi)為ITO、FTO、單晶硅片等(deng)半導體(ti)材(cai)料,且(qie)表面導電(dian)性連(lian)續,不能使(shi)用刻蝕(shi)后基材(cai)制樣,尺寸(cun)必須大于(yu)5*5mm-小(xiao)于(yu)等(deng)于(yu)10*10mm左右,厚度小(xiao)于(yu)2mm,薄膜盡可能做的較薄,涂完膜干燥后能看到薄薄一(yi)層樣品即可。
2.粉體樣品(pin)需要(yao)制備(bei)為薄(bo)膜,參考制備(bei)方法及要(yao)求如下:先把粉末(粉末顆粒直徑最好在(zai)1萬目以(yi)下)樣品(pin)分散在(zai)水或乙醇(chun)里(li)(濃度盡量低(di)點),旋涂滴在(zai)ITO上烘(hong)干(gan),可以(yi)多循(xun)環幾(ji)次,一(yi)定要(yao)保證膜表面盡量平整、均勻、連續、整潔,ITO尺寸必須大(da)于(yu)(yu)5*5mm-小于(yu)(yu)10*10mm左右,涂完膜干(gan)燥后膜層(ceng)(ceng)以(yi)完全覆蓋住ITO即(ji)可(膜層(ceng)(ceng)厚(hou)度10-50nm即(ji)可),膜層(ceng)(ceng)的電阻最好小于(yu)(yu)10千(qian)歐,最大(da)不(bu)能超(chao)過30千(qian)歐。