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聚焦離子束掃描電鏡(FIB-SEM)

ZEISS Crossbeam 540;Helios G4 PFIB HXe;Helios 600i;具體咨詢

全國服務熱線:

項(xiang)目(mu)簡介

用途及功能:

1.定點(dian)剖面形貌(mao)和成分表征 

2. TEM樣(yang)品制備 

3. 微納結構加工 

4.  芯片線路(lu)修改

5.切片式三維重構

6.材料轉移 

7.三維原(yuan)子探針樣品(pin)制備

適用領域:

結(jie)構分析(xi)(xi)、材料(liao)表征、芯片修補、生物檢(jian)測(ce)、三維(wei)重構、材料(liao)轉移等(deng),該系(xi)統可適用于橫截(jie)面和(he)斷(duan)層(ceng)掃描,3D分析(xi)(xi),TEM樣(yang)品制備及納米圖形加工(gong);

結(jie)果展示

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樣(yang)品要(yao)求(qiu)

1、無(wu)揮發性,固體、塊體長寬(kuan)最好小于(yu)20mm,高(gao)度小于(yu)5mm。

2、樣品(pin)要求導電性良(liang)好(hao),如果導電性比(bi)較差的(de)話需(xu)要進行(xing)噴金或噴碳處理。

3、透射(she)樣品制備只保(bao)證切出(chu)的樣品厚度可以拍透射(she)。

常見問題

1. fib切的透射薄片有孔或者部分脫落有影響嗎?

切樣的(de)目的(de)就(jiu)是(shi)為(wei)了減薄(bo)(bo)樣品,一些材質(zhi)減薄(bo)(bo)后(hou)就(jiu)會出現部分脫(tuo)落,穿孔(kong)的(de)現象,屬于(yu)正常(chang)現象,有薄(bo)(bo)區,不影(ying)響透射拍攝即可,比(bi)如離子減薄(bo)(bo)制樣就(jiu)是(shi)要(yao)在(zai)材料(liao)上穿一個孔(kong)。


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